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◎本のあらすじ
プロセスフローを例にして基礎から発展までの技術が豊富なイラストで手に取るようにわかる。
◎目次
リソグラフィ技術とは引き算のプロセス？
光リソグラフィの発展
露光技術と装置
レジスト材料
レジスト塗布と現像
マスクとリソグラフィ技術
ＥＵＶリソグラフィ
リソグラフィの計測技術
多彩なパターニング技術
ＣＭＯＳロジックプロセス（フロントエンド）
ａ−Ｓｉ　ＴＦＴプロセス
ａ−Ｓｉ太陽電池プロセス
◎著者紹介
佐藤 淳一
京都大学大学院工学研究科修士課程修了。１９７８年、東京電気化学工業（株）（現ＴＤＫ）入社。１９８２年、ソニー（株）入社。一貫して、半導体や薄膜デバイス・プロセスの研究開発に従事。この間、半導体先端テクノロジーズ（セリート）創立時に出向、長崎大学工学部非常勤講師などを経験。現在はナノフロント研究所代表として半導体技術コンサルタント、テクニカルライターとして活動。応用物理学会員(本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです)
※予約できる点数は、１人１０点までです。
※長期未返却資料がある場合、お返しいただくまで新たな資料の予約申込みはできません。
※町田市に在住もしくは、多摩美術大学・東京工科大学・桜美林大学に在学、在勤で利用者登録されている方は、ホームページからの予約サービスは受けることができません。

所蔵

所蔵件数は1件です。

現在の予約件数は0件です。

No.所在場所置き場所分類図書記号巻冊記号資料コード形態状態禁帯
1橋本図書館開架549.8 31083181図書在架

詳細情報

名称書誌情報
書名 ﾖｸ ﾜｶﾙ ｻｲｼﾝ ﾊﾝﾄﾞｳﾀｲ ﾘｿｸﾞﾗﾌｲ ﾉ ｷﾎﾝ ﾄ ｼｸﾐ
よくわかる最新半導体リソグラフィの基本と仕組み
副書名 ﾘｿｸﾞﾗﾌｲ ｷﾞｼﾞﾕﾂ ﾉ ｶｸｼﾝ ﾆ ｾﾏﾙ ﾋﾞｻｲｶ ﾉ ｶｷﾞ
リソグラフィ技術の核心に迫る　微細化の鍵
叢書名 ﾊｳﾆﾕｱﾙ ｽﾞｶｲ ﾆﾕｳﾓﾝ ﾋﾞｼﾞﾕｱﾙ ｶﾞｲﾄﾞﾌﾞﾂｸ
Ｈｏｗ－ｎｕａｌ図解入門Ｖｉｓｕａｌ　Ｇｕｉｄｅ　Ｂｏｏｋ
著者名１ ｻﾄｳ ｼﾞﾕﾝｲﾁ
佐藤　淳一／著
出版者 ｼﾕｳﾜｼｽﾃﾑ
秀和システム
出版年 2011
ページ 271P
サイズ 21
ＩＳＢＮ 978-4-7980-3063-0　(4-7980-3063-5)
価格 0002000
内容紹介 プロセスフローを例にして基礎から発展までの技術が豊富なイラストで手に取るようにわかる。
件名 半導体

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